美国司法部起诉中国国营福建晋华积体电路公司（Fujian Jinhua Integrated Circuit Co.）与台湾的联华电子公司（United Microelectronics），涉嫌共谋窃取美国晶片制造商美光（Micron）的商业机密。
《彭博社》报导，美国司法部在加州起诉福建晋华、联电和3名联电员工，象征美国政府打击中国的经济间谍活动。
美国政府也试图通过民事诉讼，阻止这两间公司生产的任何产品出口至美国。
起诉书指出，涉案的3名台湾籍美光前员工是陈正坤（Stephen Chen Zhengkun，音译）、何建廷（He Jianting，音译）与王永明（Kenny Wang Yungming，音译）于2015年至2016年加入联电，开始窃取美光特定动态随机存取记忆体（DRAM）半导体的设计和生产流程，之后将这些技术转移给晋华。
检察官表示，美光是唯一一间生产DRAM的美国公司，晋华和联电原本没有生产DRAM的能力，但是，中国政府后来将DRAM和其他微电子技术发展列为国家经济优先项目，而认为有关技术被窃。
